尼康顯微鏡，雙光束干涉的原理和應(yīng)用

 在各種形式的干涉，雙光束干涉法是特別簡(jiǎn)單和直接的原則，以及實(shí)踐，并因此用于廣泛的應(yīng)用范圍。該技術(shù)將在下面詳細(xì)地描述的，與主要參照設(shè)計(jì)用于材料表面的地形測(cè)量的應(yīng)用。

干擾現(xiàn)象在高中物理*次遇到是，牛頓環(huán)，構(gòu)成在接觸點(diǎn)附近觀察到的局部同心干涉條紋，當(dāng)平凸透鏡的曲率半徑較大放置在平坦的玻璃板。這些干涉環(huán)首先研究了艾薩克·牛頓。干擾現(xiàn)象不能僅僅就輕如由沿直線傳播，如假定在幾何光學(xué)射線來解釋。繼牛頓，英國(guó)物理學(xué)家托馬斯·楊，從波動(dòng)光學(xué)的觀點(diǎn)出發(fā)，解釋了牛頓環(huán)的光干涉現(xiàn)象。即，光的波浪運(yùn)動(dòng)具有波峰和波谷;如果齒頂時(shí)后波谷波峰和波谷疊加，則波將相互增強(qiáng)，而如果波峰都在波谷重疊，則這兩個(gè)會(huì)相互抵消。因此，交替亮和暗的干涉條紋繼承會(huì)出現(xiàn)。

對(duì)應(yīng)于光波，例如，1波峰和下一個(gè)之間的一個(gè)周期內(nèi)的距離，被稱為一個(gè)波長(zhǎng)，并且通常通過表示為λ。牛頓環(huán)依次出現(xiàn)的玻璃板上，并通過半波長(zhǎng)的透鏡表面的增加之間的空氣間隙。因此，如果不同波長(zhǎng)的入射光被使用時(shí)，對(duì)應(yīng)于紅色和綠色的，例如，然后連續(xù)環(huán)之間的間隔將是更廣泛的用于紅色光比為綠色。

圖1（a）示出了形成在其允許凸透鏡被夾緊，螺釘?shù)膹埩ο?，與平坦的玻璃板接觸的裝置的牛頓 環(huán)。干涉條紋的順序，從暗盤在圖案的中心算，是由表示?（其中? = 0，1，2，...）。當(dāng)用光學(xué)干涉處理，但要注意的是光波的疊加在介質(zhì)中，通過該光傳播（考慮到在光學(xué)距離計(jì)算干涉）是重要的。如果透鏡和玻璃板之間的間隙是在真空中或在空氣中，則折射率（?介質(zhì)）是1。另一方面，如果該間隙被充滿水，然后N = 1.333，并且作為結(jié)果，穿過該介質(zhì)時(shí)，光的速度降低了。因此，該波長(zhǎng)被有效地縮短，并且連續(xù)環(huán)之間的距離被減少。在相反的方式中，這種關(guān)系可以用于測(cè)量介質(zhì)的折射率的物鏡。

如果光波的入射角度被表示為Φ和厚度，或玻璃板和透鏡之間的距離，由t，則干涉條紋時(shí)會(huì)出現(xiàn)下面的條件得到滿足：

Nλ= 2nt×COSΦ

在由圖1（a）所示的情況下，入射角等于零，COS Φ = 1（如將始終對(duì)于垂直入射的情況下），所以上述關(guān)系式變成：

Nλ= 2nt,

經(jīng)過重新排列，

T = N / n×λ/ 2.

因此，在真空中或在空氣中，由于n = 1時(shí)，就減少到：

T = N×λ/ 2，

其中N = 1，2，3，...。（任意正整數(shù)）。因此，每個(gè)時(shí)間間隙的厚度通過改變λ / 2（半個(gè)波長(zhǎng)）的干涉條紋出現(xiàn)（圖1（b））。

再參照?qǐng)D1（a）所示，干涉條紋出現(xiàn)像在裝置的頂面間隔對(duì)應(yīng)于半波長(zhǎng)的高度差輪廓線。這相當(dāng)于由牛頓干涉條紋在物體的表面上半個(gè)波長(zhǎng)的間隔形成的輪廓線。在地圖的情況下，海平面構(gòu)成基準(zhǔn)平面，而在干涉條紋的情況下，玻璃板作為參考。在光學(xué)干涉測(cè)量，該參考平面被稱為基準(zhǔn)板（或參考反射鏡）?；蛘撸@種類型的干涉圖案被稱為“等厚干涉條紋”。

圖1（c）示出干涉條紋的間距和由基準(zhǔn)板（基準(zhǔn)鏡面）和試樣的表面形成的空氣楔的角度之間的關(guān)系。在這種情況下，從上面的討論中，干涉條紋明顯不是圓形的像牛頓環(huán)，而是形成為直線。隨著角度的增大，干涉條紋之間的間距減小。

紅色曲線在圖1（d）繪出了牛頓環(huán)的圖1（a），測(cè)量值用顯微光度計(jì)的干涉條紋的強(qiáng)度分布。在這個(gè)例子中，分配顯示寬等高線。在一個(gè)地形圖，更精細(xì)的輪廓線間隔，更加細(xì)膩，可以表示的細(xì)節(jié)。類似地，干涉條紋的寬度支配精度在表面的凹凸的干涉測(cè)量獲得。示出的方法具有這樣的標(biāo)本必須被放置在與基準(zhǔn)板（基準(zhǔn)鏡面）接觸的缺點(diǎn)。

聯(lián)系模型中的應(yīng)用

圖2（a）是天然的金剛石與0.8毫米在長(zhǎng)邊，用牛頓環(huán)的方法，其中上述被示為一個(gè)透鏡與玻璃板接觸檢查的顯微照片。將試樣照射的波長(zhǎng)（光λ為546納米（綠）），通過多層過濾器的裝置獲得。采用這種簡(jiǎn)單的方法，半波長(zhǎng)（273納米）的輪廓線，可以可視化的標(biāo)本。由于水平距離是從放大倍率或尺度立即知道，該表面的傾斜角可以計(jì)算出來。此外，還能夠得到橫截面將顯示當(dāng)鉆石被切割成各種方向。因?yàn)楣鉁?zhǔn)確已知波長(zhǎng)的使用，高度可以以極高的精度來測(cè)量。此鉆石表面的突起是12 λ高，或約6.5微米，且表面的傾斜度測(cè)量為大約1度和16分鐘。

圖2（b）示出了該表面的顯微組織，而忽略定量測(cè)量。如果在圖1（c）所示的楔角為接近零，可以得到這種類型的圖像。這么小的楔角，有擴(kuò)闊的零階，然后覆蓋整個(gè)視場(chǎng)的干涉條紋的效果。如果楔角減小到零，晶體和基準(zhǔn)板的表面成為平行的。擴(kuò)大單個(gè)干擾以實(shí)現(xiàn)高對(duì)比度的這種方法是被稱為高分散性的方法，并且允許的高度差小至2納米的可視化。

高分散方法使用一個(gè)單一的干涉條紋實(shí)際上具有在空氣間隙方面的連續(xù)強(qiáng)度分布，如圖2（c）該事實(shí)。對(duì)應(yīng)于無窮小的高度差dt的，在由一個(gè)單一的干涉條紋的強(qiáng)度變化的dI，如在圖2（c）示出。通過用一個(gè)比較大的值，利用該曲線部分的di / dt，可以觀察到具有高靈敏度的詳細(xì)的表面結(jié)構(gòu)。此外，用這種方法，出現(xiàn)在相襯顯微鏡的那種暈不發(fā)生，并且整個(gè)表面可以與來自任何方向的高對(duì)比度可視化。這種方法的缺點(diǎn)是極度敏感的機(jī)械振動(dòng)和在保持相同的對(duì)比度比的長(zhǎng)時(shí)間因之困難。

上一個(gè)（蝕坑111的鉆石）面示于圖3（a）所示。由氧化劑蝕刻后，高色散條紋是可視化通過雙光束干涉。該圖像清楚地顯示兩種類型的腐蝕坑-平底和點(diǎn)見底。平底凹點(diǎn)是非常淺的，具有深度的大約四分之一波長(zhǎng)的（137納米）或更小。與此相反，從干涉條紋的數(shù)量計(jì)算，*深點(diǎn)底坑是大約三個(gè)波長(zhǎng)（1.64微米）深。此外，在晶體（在圖像的右上角）的周緣的干涉條紋表明，該晶體的邊緣已被四舍五入通過溶解的作用。此外，由于坑的邊的長(zhǎng)度可以測(cè)量，凹坑的梯度可以計(jì)算出來。*深的坑的傾斜，在該方向上從一個(gè)頂點(diǎn)到中心，大約為8度和50分鐘。因此，坑的山坡上，為定量確定，實(shí)際上是相當(dāng)溫和的比將由臨時(shí)檢查推斷。圖3（a）示出了其中兩個(gè)觀察和測(cè)量可以完成與一個(gè)單一的顯微照片的例子。

前面的例子已經(jīng)說明了從晶體生長(zhǎng)和溶解由雙光束干涉可視化造成表面微觀結(jié)構(gòu)。該方法也適用于通過物理破壞產(chǎn)生的斷裂面的研究。圖3（b）是金剛石生產(chǎn)的巨脈沖激光，與平面的匹配用于比較雙方的解理面的雙光束干涉顯微鏡照片。的事實(shí)，雙方不相同表明某些片段，盡管分鐘，分別在晶體中切下丟失。三角形抑郁癥中出現(xiàn)在照片的左側(cè)緣的中心，這是在激光束被聚焦透鏡的位置。表面上的痕跡表明，光瞬間穿過鉆石，并部分反映在對(duì)面的墻上，在照片的中心是抑郁癥時(shí)產(chǎn)生這種反射的發(fā)生。此外，它可以判定該骨折的晶體內(nèi)大約從反射面100微米的點(diǎn)開始。

所謂斷口是檢查斷裂表面通過光或掃描電子顯微鏡和分析觀察到的模式的基礎(chǔ)上的斷裂機(jī)制的做法。在圖示的分析，雙光束干涉法可以適用于獲得關(guān)于斷裂表面和地形不規(guī)則性被稱為流狀結(jié)構(gòu)的定量信息河流圖案。

邁克爾遜干涉儀

所有上述干涉圖樣是由在該樣品的表面被放置在幾乎與基準(zhǔn)盤接觸的方法創(chuàng)建。然而，在試樣如半導(dǎo)體，其對(duì)污染，或者軟，容易變形的標(biāo)本極為敏感的情況下，理想的是形成無接觸的干涉圖案。其中的一個(gè)方法依賴使用時(shí)邁克爾遜干涉儀型，其中有幾個(gè)變種。

邁克爾遜干涉儀的原理，如圖4（a）所示，是相當(dāng)簡(jiǎn)單的。為設(shè)計(jì)的基本要素如下。由光源發(fā)出的光束被半反射鏡（分束器），這些光束被引導(dǎo)到一個(gè)平面的參考反射鏡和其它到樣品表面中的一個(gè)分成幾乎相等強(qiáng)度的兩束光。由這兩個(gè)光束的反射所產(chǎn)生的光然后由干涉。當(dāng)從觀察孔觀察到的，參考反射鏡的圖像和被檢體表面的圖像之間發(fā)生干擾。因?yàn)橛稍嚇雍蛥⒖挤瓷溏R反射的光波從由同一光源發(fā)出的光束的分束起源，這些波是相互一致的，從而得到一種雙光束干涉圖案。插入所述分束器和參考反射鏡之間的光路中的對(duì)象，是相同的組成和厚度與分束器的玻璃板。因?yàn)榇税宓拇嬖?，在兩個(gè)分開的光束在到達(dá)觀察口通過等效的光學(xué)距離（折射指數(shù)和光學(xué)元件的厚度的乘積）傳播后。請(qǐng)注意，在這種類型的干涉儀，分束器和樣品表面是由明顯的距離分開，因此，非接觸的方式，得到的干涉圖案。

非接觸式干涉測(cè)量?jī)x器

的雙光束干涉儀的功能通過將原來的相干光分成相等強(qiáng)度的兩束光，引導(dǎo)一個(gè)光束到參考反射鏡和其它到樣品，并測(cè)量產(chǎn)生的2之間的光程差（在光學(xué)距離之差）反射的光波。為了實(shí)現(xiàn)這個(gè)方法，不同類型的儀器已制定，采用多臺(tái)設(shè)備來分割光波，并提供相應(yīng)的光路。

在沃森干擾物鏡，由沃森公司（英國(guó)）制造，是邁克爾遜干涉儀的緊湊型變型，設(shè)計(jì)用于在顯微鏡安裝。（b）該儀器的構(gòu)造示于圖4。在此圖中與邁克爾遜原理的示意圖（圖4（a））進(jìn)行比較，可以看出，物鏡被置于靠近分束器，允許的分鐘試樣進(jìn)行測(cè)量。

在這個(gè)干涉儀，基準(zhǔn)反射鏡相對(duì)于光軸的傾斜相當(dāng)于使用一個(gè)基準(zhǔn)板不平行于樣品的表面上，因此形成一個(gè)空氣楔形，如圖1（c）所示。參考反射鏡的相對(duì)的對(duì)試樣表面的傾斜度越大，則干涉條紋之間的間距較窄。各個(gè)干涉條紋的方向是相同的樣品表面和參考反射鏡的圖像的平面的交線的方向。移的參考反射鏡的左或右方向具有不同的樣品表面和所述反射鏡的圖像之間的距離的影響。如果這兩個(gè)表面是平行的，然后由高色散圖案形成，并且如果參考鏡像平面由半個(gè)波長(zhǎng)的距離移離試樣平面時(shí)，干涉條紋的各自順序由一個(gè)改變。通過波長(zhǎng)的四分之一移位通過將亮條紋暗條紋，反之亦然反轉(zhuǎn)的格局。

另一個(gè)儀器變化是由提供林尼克干涉儀，它采用了高倍率物鏡中的干擾的技術(shù)，以觀察微小的細(xì)節(jié)中的應(yīng)用。所采用的原則是邁克爾遜干涉儀。圖4（c）所示的基本結(jié)構(gòu)，它包括一個(gè)光源，一個(gè)準(zhǔn)直器，一光束分離棱鏡，目鏡，均勻的物鏡具有完全一致的光學(xué)距離，檢體的表面，這產(chǎn)生了一個(gè)圖像和一個(gè)參考鏡，這就會(huì)引起的反射圖像。因?yàn)榫鶆虻奈镧R是難以制造，只有少數(shù)這類儀器的已上市銷售。

該Mirau干擾物鏡是在由尼康公司生產(chǎn)的儀器使用相對(duì)高的放大倍率（10倍，20倍或40倍）的干擾的物鏡。該裝置的原理，如圖5（a）所示，依賴于放置一個(gè)反射鏡的參考中的物鏡的中心，并插在物鏡和標(biāo)本之間的半反射鏡。這些元件被布置為使得干涉圖案會(huì)出現(xiàn)，如果系統(tǒng)被聚焦在樣品上。如果試樣是傾斜的，局部的干涉條紋就會(huì)出現(xiàn)如前面的雙光束干涉的描述中解釋。特色的設(shè)計(jì)類，非接觸式測(cè)量可以用該儀器進(jìn)行。

圖5（b）所示的設(shè)計(jì)尼康低倍物鏡的干擾，一種新型的物鏡（TI工具和具有2.5倍的放大倍率和5倍）近日由該公司開發(fā)。使用低倍物鏡有兩個(gè)優(yōu)點(diǎn)。首先，工作距離比較長(zhǎng)（11.1毫米為2.5倍物鏡和9毫米為5×物鏡）。其次，寬視場(chǎng)可以用一個(gè)大景深的好處被觀察到。這種干擾物鏡的突出特點(diǎn)在于，參考反射鏡的中心位于所述物鏡的光軸上的事實(shí)。為了實(shí)現(xiàn)這個(gè)功能，參考反射鏡位于一個(gè)半球的平面表面。反射鏡的角度由半球后面兩個(gè)螺釘來調(diào)節(jié)。立即改變傳統(tǒng)的明場(chǎng)觀察可以通過在鏡子前插入一個(gè)遮光件進(jìn)行。

在使用中，由于基準(zhǔn)反射鏡的中心與光軸一致時(shí)，干涉圖案會(huì)立即出現(xiàn)在視場(chǎng)的中心。當(dāng)使用前面提到的沃森干涉儀或Mirau物鏡，在可顯示的視場(chǎng)的中心的干涉圖案通常需要繁瑣的操作，這往往會(huì)阻礙更廣泛地使用干涉。另外，由于本發(fā)明的眼鏡適合于視場(chǎng)的數(shù)目多達(dá)20個(gè)，實(shí)際場(chǎng)的*大直徑等于視場(chǎng)的數(shù)目除以放大率，直徑的樣品高達(dá)約8毫米（放大倍數(shù)為2.5倍），或4公厘（放大倍數(shù)為5倍），可干涉測(cè)量單個(gè)觀察。

如果刻度標(biāo)在參考反射鏡，則該比例可以方便地記錄在顯微照片或數(shù)字圖像。在沃森干涉儀，專用照明是必需的干擾的物鏡，但是這不是必需的尼康TI或Mirau儀器;同一光路中，用于明視場(chǎng)觀察和干涉測(cè)量。

點(diǎn)干涉的應(yīng)用程序需要注意

在前面的討論中，實(shí)際的雙光束干涉儀的幾個(gè)例子進(jìn)行了說明參照傳統(tǒng)分類成接觸和非接觸的方法。然而，實(shí)際上在這兩種方法之間的干涉條紋的性質(zhì)并沒有本質(zhì)上的區(qū)別，顯然低和高傳播模式是通過兩種方法獲得。非接觸式方法顯然擁有廣泛的適用性。在接觸的方法，該干涉條紋的順序從第零增加時(shí)，*和第二等，以單向方式中，由于參考表面和所述試樣由楔狀空氣間隙隔開。另一方面，在非接觸的方法，所述參考反射鏡的圖像和被檢體之間的交叉處形成的零級(jí)條紋，兩側(cè)，其中，一階，二階和更高階條紋出現(xiàn)。這種模式的示于圖6（b），這是故意采取未經(jīng)過濾，使用白色光，因此，條紋的順序是很容易分辨。0級(jí)暗條紋是在中心場(chǎng)，由高階兩側(cè)邊緣兩側(cè)可見。條紋的訂單，如果一個(gè)人觀察紅色條紋（原始彩色圖像的黑白版本在這里提出）很容易確認(rèn)。的紅色條紋多達(dá)六個(gè)命令出現(xiàn)在右側(cè)和高達(dá)對(duì)零級(jí)條紋的左側(cè)紅色條紋5訂單。

如果該模式被拍到與單色光，干涉圖案會(huì)與幾乎相同的對(duì)比度進(jìn)行顯示，但這些條紋的連續(xù)性將變得晦澀于在水平突然變化的位點(diǎn)。因此，在任何類型的干涉，這些條紋的連續(xù)性應(yīng)先用白色光，以避免實(shí)質(zhì)性的錯(cuò)誤確定。使用具有窄半帶寬的高品位干涉濾光器時(shí)干涉條紋的命令下單色光識(shí)別是特別困難的。

測(cè)量的精確度是通過創(chuàng)建更精細(xì)的干涉條紋改善。以前，光源，例如低壓鈉燈被用于此物鏡。然而，目前，因?yàn)楦邫n干涉濾光器是可用的，鹵素?zé)敉ǔＳ迷谶@些改進(jìn)的過濾器的組合。在這種情況下，兩點(diǎn)應(yīng)予注意。首先，不同的是使用的光鈉，*大發(fā)射波長(zhǎng)通常根據(jù)所用的特定干涉濾光器而變化到一定程度。因此，能夠精確地確定該過濾器的特征波長(zhǎng)它是*重要的。其次，過濾器必須被插入在垂直于光軸的，因?yàn)榧词故禽p微的傾角將導(dǎo)致轉(zhuǎn)向更短的波長(zhǎng)。

測(cè)量高程的差異

用輪廓線垂直的表面的凹凸和地形測(cè)量已經(jīng)討論過，并在圖2和圖3所示。在這里，一個(gè)例子，其中給出這樣的違規(guī)行為是使用三個(gè)干涉條紋測(cè)量。圖7示出微分干涉和雙光束干涉顯微照片（圖7（a）和7（b）所示，分別）的剃刀刀片，它允許機(jī)械加工表面的粗糙度的測(cè)定的邊緣。

在這種情況下，參考反射鏡和試樣之間的關(guān)系是在原理上是如圖1（c）的類似，其中，所述干涉條紋依次由半波長(zhǎng)顯示為高度的變化。假設(shè)，對(duì)應(yīng)于深度的磨損槽t如圖7所示，圖7（c）的干涉條紋出現(xiàn)。如果該照片被放大，那么這兩個(gè)e和L可以被測(cè)量。使用這些值，深度t可以從下面的公式計(jì)算：

t = D / L×λ/ 2。

在圖7中所示的干涉條紋的間距是有點(diǎn)窄，這可能使測(cè)量困難。在某些試樣的研究中，干涉條紋的分散體可以被改變以增強(qiáng)表面特征的可視化。圖8（a）至圖8（d）示出的螺旋生長(zhǎng)磁鉛（六方晶鐵素體），用六角螺顯示一個(gè)鋸齒形的角度。圖8中的分散體（b）是小的，并且在干涉條紋的變化是不是明顯的，除了在*厚的步驟，但盡管如此，這些條紋的命令可以枚舉。

如果該分散體被增加到圖8中的程度（c）所示，則凹凸的薄的特性，以及在厚的步驟變得可見。在圖像的中心的邊緣是特別有趣的。因?yàn)樵撃Ｊ绞怯捎诼菪L(zhǎng)，邊緣應(yīng)均勻地在同一方向上移動(dòng)，但在這里，各個(gè)條紋不僅直線而是顯示一分鐘的橫向振動(dòng)模式。這可以被解釋為表示在圖8（E）所示的形狀的橫截面。用虛線表示的水平代表了晶體的生長(zhǎng)，連續(xù)的電平差即1.2納米量級(jí)的后立即形成的螺旋形的步驟。這是由于晶體進(jìn)行準(zhǔn)二維溶解，導(dǎo)致由圖8中的固體灰色區(qū)域（e）所示，類似于現(xiàn)在的期間侵蝕后殘留在科羅拉多高原的隆起部表示的本剖面圖。在本例中，脊60納米的高度的數(shù)量級(jí)。當(dāng)分散體仍進(jìn)一步增加，如在圖8（d）所示，圖像變得更適于定性觀察比進(jìn)行測(cè)量。步驟以及可視化，雖然只在網(wǎng)站，干涉條紋已展開。另一方面，當(dāng)該樣品是通過亮視野顯微鏡觀察時(shí)，只有*厚的步驟被可視化，如所示在圖8（a）給出的相襯的顯微照片。

有一點(diǎn)要注意測(cè)量這些步驟時(shí)，是該干涉條紋應(yīng)進(jìn)行調(diào)整，使它們垂直于要被測(cè)量的，這有利于隨后的程序中的步驟執(zhí)行。此外，如果彩色照片不能采取，試樣應(yīng)先用白色光觀察，并且干涉條紋的連續(xù)性確認(rèn)，以促進(jìn)隨后的測(cè)量。

當(dāng)使用高分散，單個(gè)干涉條紋變得相對(duì)較寬，因此步驟可以通過比較邊緣本身的寬度進(jìn)行測(cè)量。在這種情況下，亮和暗條紋的寬度變得幾乎相等，如圖所示，例如，在圖8（c）所示。換句話說，在本身的單一寬干涉條紋表示的電平差異λ / 4。在一個(gè)單一的干涉條紋的移位是在圖8（f）中，在其中的電平差是位于中央。

*水平的差異和測(cè)量極限

在這兩個(gè)圖2（a）和圖3（a）所示，三角形的輪廓線出現(xiàn)，而是從一開始就被解釋為表示在其他在一種情況下升高和凹陷。然而，這種區(qū)別決不是不言而喻的，并且決定只對(duì)在立面圖晶體生長(zhǎng)的結(jié)果，同時(shí)蝕刻結(jié)果在凹陷的假設(shè)的基礎(chǔ)上。因此，該顯微鏡面臨著如何感知抑郁和標(biāo)高之間的*差異的問題。如果該電平差異是相當(dāng)大的，那么這些可以通過調(diào)整物鏡的聚焦區(qū)分開來，但如果電平差異是在觀察中使用的光的波長(zhǎng)的量級(jí)，那么這種無法做到的。一種可能的方法，但是，是使用相位差顯微鏡的。通過互換正，負(fù)相襯，可以逆轉(zhuǎn)出現(xiàn)在步的高側(cè)暈的對(duì)比度，從而高和低之間的*區(qū)分。然而，這可以，實(shí)際上，可以通過雙光束干涉，即使沒有相位差顯微鏡來完成。用白色光檢查的凸形物體的表面，該干涉條紋被排列在從基準(zhǔn)板（基準(zhǔn)鏡面）的向著物體的周圍的附近增大的順序。如參考圖6說明（b）所示，條紋的順序可以從他們的顏色布置確定。相反，在凹對(duì)象的情況下，條紋的順序增加從朝向中心的圓周上。也就是說，它足以進(jìn)行測(cè)量，同時(shí)牢記的顏色的干涉條紋的順序和氣隙的大小。

的電平差測(cè)量的極限取決于到的干涉條紋（強(qiáng)度峰值的裙子）的寬度可以被定義為限。如果測(cè)量下降到條紋的寬度的1/10可以執(zhí)行，那么測(cè)量的極限應(yīng)該是順序的λ / 10，或大約25納米。